| 四氟化碳（CF4） | |
| 化学式 | CF4 |
| 中文名称 | 四氟化碳 |
| 英文名称 | Carbon tetrafluoride |
| CAS No. | 75-73-0 |
| 分子量 | 88.005 |
| 充装量 | 13.5Mpa（21.1度） |
| 应用 | 四氟化碳是目前半导体产业中用量最大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。对于硅和二氧化硅体系，采用CF4-H2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。 |
四氟化碳，又称为四氟甲烷、Freon-14及R 14，是一种卤代烃（化学式：CF4）。它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲烷、全氟化碳，也可被视为一种无机化合物。 -198 °C时，四氟化碳具有单斜的结构，晶格常数为a = 8.597, b= 4.433, c = 8.381 (.10-1 nm), β = 118.73° 。
